catia知识工程阵列
软件: catia
CATIA知识工程阵列概述
知识工程阵列是CATIA知识工程(Knowledge Engineering)模块中的核心功能之一,旨在通过参数化规则与模板实现特征的智能重复布局,提升设计效率并保证一致性。其本质是将重复的设计逻辑(如线性、圆形、螺旋排列)封装为可复用的阵列规则,结合参数(如实例数量、间距、方向)动态生成特征集合,适用于机械零件(如加强肋、孔)、曲面造型(如线性/环形阵列曲面)等多种场景。
一、常见阵列类型及操作步骤
1. 矩形阵列(最常用)
矩形阵列用于沿两个垂直方向(X/Y轴或自定义方向)复制特征,适用于规则网格布局(如加强肋、散热片)。
操作步骤:
- 打开CATIA零件设计文件,完成基础特征(如“加强肋”凸台)创建;
- 点击工具栏中的矩形阵列按钮(或通过“插入→特征→矩形阵列”路径);
- 在“定义矩形阵列”对话框中:
- 选择第一方向,设置“实例和间距”模式,输入实例数量(如4个)、间距(如260mm),并通过“参考元素”选择方向基准(如模型边缘线);
- 可选设置第二方向(若需双向阵列),重复上述参数配置;
- 点击“要阵列的对象”,选择需阵列的特征(如“加强肋”);
- 点击“确定”,完成矩形阵列。

2. 圆形阵列
圆形阵列用于沿圆周方向复制特征,适用于旋转对称布局(如孔、肋板)。
操作步骤:
- 完成基础特征(如“孔”)创建;
- 点击圆形阵列按钮(或“插入→特征→圆形阵列”);
- 在“定义圆形阵列”对话框中:
- 输入实例数量(如4个)、角度间距(如90°);
- 选择参考元素(如Y轴,作为旋转中心);
- 点击“要阵列的对象”,选择需阵列的特征(如“孔”);
- 点击“确定”,完成圆形阵列。
3. 曲面阵列
曲面阵列用于复制基准曲面(如平面、曲面),生成有序的曲面集合,适用于复杂曲面造型(如饮料瓶表面纹理)。
操作步骤:
- 创建基准曲面(如通过“草图→旋转体”生成的曲面);
- 点击阵列曲面按钮(或“插入→曲面→阵列曲面”);
- 选择阵列类型(如线性阵列),设置方向(平行/垂直)、数量(如实例数5)、间距(如10mm);
- 点击“确定”,生成线性阵列曲面。
二、关键参数说明
- 实例数量:阵列生成的特征总数(如矩形阵列的行×列数量、圆形阵列的圆周分布数量);
- 间距/角度:实例间的距离(矩形阵列)或圆周角度(圆形阵列),直接影响布局密度;
- 参考元素:定义阵列方向的基准(如模型边线、坐标轴),方向错误可通过“反转”按钮调整;
- 要阵列的对象:需复制的特征(如凸台、孔、曲面),可选择单个或多个特征。
三、应用技巧与注意事项
- 参数化关联:阵列参数(如实例数量、间距)可与全局变量或设计表关联,实现参数驱动的动态调整(如修改变量值,阵列自动更新);
- 方向调整:若阵列方向不符合预期,可通过“反转”按钮快速调整参考元素方向;
- 预览功能:操作过程中可通过“预览”按钮查看阵列效果,避免重复修改;
- 复杂阵列:对于非规则布局(如螺旋阵列),可通过“螺旋阵列”工具设置半径增量、角度增量等参数,实现复杂重复布局。
知识工程阵列是CATIA知识工程(Knowledge Engineering)模块中的核心功能之一,旨在通过参数化规则与模板实现特征的智能重复布局,提升设计效率并保证一致性。其本质是将重复的设计逻辑(如线性、圆形、螺旋排列)封装为可复用的阵列规则,结合参数(如实例数量、间距、方向)动态生成特征集合,适用于机械零件(如加强肋、孔)、曲面造型(如线性/环形阵列曲面)等多种场景。
一、常见阵列类型及操作步骤
1. 矩形阵列(最常用)
矩形阵列用于沿两个垂直方向(X/Y轴或自定义方向)复制特征,适用于规则网格布局(如加强肋、散热片)。
操作步骤:
- 打开CATIA零件设计文件,完成基础特征(如“加强肋”凸台)创建;
- 点击工具栏中的矩形阵列按钮(或通过“插入→特征→矩形阵列”路径);
- 在“定义矩形阵列”对话框中:
- 选择第一方向,设置“实例和间距”模式,输入实例数量(如4个)、间距(如260mm),并通过“参考元素”选择方向基准(如模型边缘线);
- 可选设置第二方向(若需双向阵列),重复上述参数配置;
- 点击“要阵列的对象”,选择需阵列的特征(如“加强肋”);
- 点击“确定”,完成矩形阵列。

2. 圆形阵列
圆形阵列用于沿圆周方向复制特征,适用于旋转对称布局(如孔、肋板)。
操作步骤:
- 完成基础特征(如“孔”)创建;
- 点击圆形阵列按钮(或“插入→特征→圆形阵列”);
- 在“定义圆形阵列”对话框中:
- 输入实例数量(如4个)、角度间距(如90°);
- 选择参考元素(如Y轴,作为旋转中心);
- 点击“要阵列的对象”,选择需阵列的特征(如“孔”);
- 点击“确定”,完成圆形阵列。
3. 曲面阵列
曲面阵列用于复制基准曲面(如平面、曲面),生成有序的曲面集合,适用于复杂曲面造型(如饮料瓶表面纹理)。
操作步骤:
- 创建基准曲面(如通过“草图→旋转体”生成的曲面);
- 点击阵列曲面按钮(或“插入→曲面→阵列曲面”);
- 选择阵列类型(如线性阵列),设置方向(平行/垂直)、数量(如实例数5)、间距(如10mm);
- 点击“确定”,生成线性阵列曲面。
二、关键参数说明
- 实例数量:阵列生成的特征总数(如矩形阵列的行×列数量、圆形阵列的圆周分布数量);
- 间距/角度:实例间的距离(矩形阵列)或圆周角度(圆形阵列),直接影响布局密度;
- 参考元素:定义阵列方向的基准(如模型边线、坐标轴),方向错误可通过“反转”按钮调整;
- 要阵列的对象:需复制的特征(如凸台、孔、曲面),可选择单个或多个特征。
三、应用技巧与注意事项
- 参数化关联:阵列参数(如实例数量、间距)可与全局变量或设计表关联,实现参数驱动的动态调整(如修改变量值,阵列自动更新);
- 方向调整:若阵列方向不符合预期,可通过“反转”按钮快速调整参考元素方向;
- 预览功能:操作过程中可通过“预览”按钮查看阵列效果,避免重复修改;
- 复杂阵列:对于非规则布局(如螺旋阵列),可通过“螺旋阵列”工具设置半径增量、角度增量等参数,实现复杂重复布局。